發(fā)布者:激光切割加工|凱利特 時間:2020/2/26 11:47:29
探測近場光學信號的想法最早產(chǎn)生于1928年,但直到20世紀80年代,激光切割加工的發(fā)明才真正實現(xiàn)了利用光纖探針探測束縛在物體表面非輻射場的實驗。普通光學成像的分辨率由于受到衍射極限的限制,理論上不能超過入射光波長的1/2,在可見光范圍內(nèi),這一值約為200m。當入射光通過一個直徑小于波長的小孔時,樣品上只有相當于小孔直徑的范圍被照射此時掃描成像的分辨率將取決于探針的最小尖端的直徑及探針和樣品之間的間距。近場光學的本質(zhì)是探測由物體衍射產(chǎn)生的攜帶低于約2/空間頻率的傳導分量和攜帶高于約2/空間頻率的非輻射分量,即隱失場(EvanescentField)分量。而隱失場的有效范圍僅限于以以下,所以當使用納米尺度的探針在樣品表面掃描時,理論上可以將衍射場的非輻射分量記錄下來并轉(zhuǎn)換為傳導分量,從而極大地拓寬了系統(tǒng)的頻帶,因此可以獲得超高分辨率SNOM正是應(yīng)用了近場光學原理突破了光學衍射分辨極限,實現(xiàn)了在介觀和納米尺度的樣品表面收集近場光學信息。同時,SNOM是掃描探針顯微鏡(ScanningProbeMicroscope,SPM)家族中的重要成員之一,和其他SPM相同,SNOM由探針、激光切割加工信號采集和處理、探針一樣品間距反饋控制、X-Y掃描,以及圖像處理這幾部分組成如何精確控制探針和樣品間距是SNOM實現(xiàn)超衍射分辨本領(lǐng)的核心問題之一,目前以激光光點反饋模式和剪切力反饋模式為主要的實現(xiàn)方式。
激光光點反饋模式采用的是傳統(tǒng)原子力顯微術(shù)(AtomForceMicroscopy,AFM)所使用的光點反饋系統(tǒng),兩者的區(qū)別在于SNOM利用的是微懸臂鍍膜光纖探針而非金屬鎢絲探針,當探針接近樣品表面的時候,由四象限探測器接收參考激光在微懸臂探針上產(chǎn)生的反射光斑,由此確定探針和樣品之間的距離并進行反饋。剪切力反饋模式是指:當以本征頻率激振的探針靠近樣品表面時(z<50mm),由于激振的針尖和樣品間相互作用力的存在,其振蕩幅度及相位均會發(fā)生較大變化,由此可將探針樣品間距控制在5~20m范圍內(nèi)。剪切力反饋模式無需參考激光的介人,是一種非光學的距離調(diào)控方法,從而使得到的光學成像圖更具有真實性。而對于激光切割加工和樣品之間剪切力作用機制的研究,有學者則通過利用不同濕度及不同阻尼介質(zhì)環(huán)境下測量的音叉微電流和探針一樣品間距(1d曲線證明,由于毛細凝聚作用,探針和樣品間耦合的水合碳氫化合物分子所形成的黏滯阻尼是導致探針和樣品間剪切力作用的主要原因基于全內(nèi)反射式的SNOM又稱光子隧道掃描顯微鏡(PhotonScanningunnelingMicroscope,PSTM),是另一種應(yīng)用近場光學原理的具有超衍射極限分辨能力的光學顯微鏡其利用未鍍膜的光纖探針代替?zhèn)鹘y(tǒng)SNOM小孔徑鍍膜光纖探針。當針尖無限接近樣品表面時,直接利用裸光纖探針接收近場光信號,其分辨能力主要由裸光纖尖端中央點的面積決定,理論上比利用鍍膜光纖的小孔徑SNOM的分辨率要高幾十倍。
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